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准日记>>国产28nm光刻机

国产首台28纳米等离子硅刻蚀机通过验证并实现销售
  2014-1-22 09:09 
  北京市经济和信息化委员会
  近日,在国家02科技重大专项的支持下,北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司自主研发的12英寸28纳米等离子硅刻蚀机全面通过中芯国际生产线全流程工艺验证,在刻蚀工艺、产品良率等关键指标上均达到国际先进水平,并获得客户订单,标志着中国集成电路高端装备国产化取得新的突破,打破了美国、日本对28纳米集成电路生产设备的技术封锁和市场垄断。
  北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司成立于2001年,一直从事高端刻蚀设备的自主开发和产业化。2006年研发成功我国第一台100纳米高密度等离子刻蚀机,填补了我国高端集成电路装备领域的空白,获得国家科技进步二等奖。2012年完成了国内第一台65纳米硅刻蚀机的大生产线销售。此次将28纳米硅刻蚀设备推向市场,真正实现了与主流生产线的需求同步。
  北方微电子NMC612B-28硅刻蚀机获得中芯国际采购订单
  辞旧迎新之际,我国集成电路高端装备产业再传捷报,由北方微电子公司自主研发的12英寸28纳米等离子硅刻蚀机全面通过中芯国际生产线全流程工艺验证,并获得客户订单,标志着中国集成电路高端装备国产化取得新的突破。
  目前北方微电子NMC612B-28硅刻蚀机,距离国外最先进水平还有一定的差距,不过这已经为中国的电子工业提供了相当的支持,毕竟并非所有的芯片都需要做到14nm。中国的自主的众核芯片采用28nm制程,峰值双精度浮点运算速度超过每秒3万亿次(3TFlops),这就是说,中国已经可以自主掌握这一水平的CPU制造了,其经济意义和军事意义都不容低估。更为重要的是,在此基础上中国将会继续冲击更高端的光刻设备,自主制造更高端的芯片。
  光刻机是一个极其复杂的光机电系统,其中的核心零件也都需要高端的特殊设备才能加工出来,比如光学系统中的透镜。为了降低衍射效应以便得到更细的线宽,光刻机中使用的激光波长只有通常可见光的三分之一,因此对透镜表面光洁度的要求比普通光学零件要高出三倍,为此必须使用特殊的抛光技术,才能满足其极为苛刻的形貌指标。
  光刻机所涉及的产业链非常长、非常高端,世界上没有任何一个国家可以完全独立地掌握其全部子系统的研发和制造技术。目前世界上最大的光刻机生产商ASML是荷兰公司,光刻机中的光学镜组来自德国、干涉测量系统来自美国,其产品可以说是整个西方世界科技成果的总和。在这方面,中国要想取得独立自主的发展,实际上是在以一己之力追赶所有发达国家百多年的积累,每一个单项的突破都意味着中国又追上了一步,这个过程将会是漫长而艰辛的。不过依托完整的产业链、庞大的工业产能和雄厚的人才基础,中国的IC产业最终实现全面超越是完全可以期待的。

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